vapour deposition câu

• Figure Manufacturing Process Analysis of Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) Equipment
  2- Lịch sử khai phát Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)
• Figure Manufacturing Cost Structure of Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) Equipment
  2- Lịch sử khai phát Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)
• means of chemical vapour deposition (CVD).
  Hóa học Vapor Deposition (CVD)
• means of physical vapour deposition (PVD).
  Vật lý Vapor Deposition (PVD)
• The wafers are then placed into a phosphorus vapour deposition furnace which lays a very thin layer of phosphorus, a group V element, which creates an n-type semiconducting surface.
  Tiếp theo, các tấm wafer được đặt vào một bể photpho tạo thành một lớp photpho rất mỏng, một nguyên tố nhóm V, tạo ra bề mặt bán dẫn loại n.
• They can also be used in lower-pressure situations such as chemical vapour deposition systems or emission control for motor vehicle exhaust.
  Chúng cũng có thể được sử dụng trong các tình huống áp suất thấp như hệ thống lắng đọng hóa học hoặc kiểm soát lượng khí thải cho xe cộ.
• With ASC, a film containing a mixture of silicon dioxide and air is created over a vapour deposition lens coating to suppress the reflection of light.
  Với ASC, film chứa hỗn hợp silicon dioxide và không khí được tạo ra trên lớp phủ thấu kính chống đọng hơi để triệt tiêu sự phản chiếu ánh sáng.
• Until now, that is, as the US' Oak Ridge National Laboratory has developed a new way of producing it using a technique known as chemical vapour deposition.
  Cho đến mới đây, Phòng thí nghiệm nước nhà Oak Ridge của Mỹ thế hệ tạo ra một bí quyết mới để phát hành nó nhờ vào việc dùng công nghệ lắng đọng khá hóa học.
• The physical vapour deposition (PVD) process ensures that the surface composition is three-times harder, delivering glistening gold or sophisticated stainless-steel finishes.
  Sự lắng đọng hơi vật lý (PVD) quá trình đảm bảo rằng các thành phần bề mặt là ba lần khó hơn, cung cấp sáng lấp lánh vàng hoặc kết thúc bằng thép không rỉ tinh xảo.
• Although there are a number of different formats of CVD, most modern processes come under two headings separated by the chemical vapour deposition operating pressure: LPCVD, and UHVCVD.
  Mặc dù có một số định dạng khác nhau của bệnh tim mạch, hầu hết các quá trình hiện đại đi theo hai nhóm tách ra bởi áp suất vận hành lắng đọng hơi hóa học: LPCVD, và UHVCVD.
• The process is similar to physical vapour deposition (PVD), the only difference being that the precursors are solid compounds, rather than gases, and therefore the process is slightly different.
  Quá trình này tương tự như lắng đọng hơi vật lý (PVD), sự khác biệt duy nhất là tiền thân là những hợp chất rắn, chứ không phải là khí, và do đó quá trình này là hơi khác nhau.
• For electronics applications, high quality graphene can be grown on silicon carbide and other substrates through a process known as chemical vapour deposition (CVD) using gases such as methane or ethylene.
  Đối với các ứng dụng thiết bị điện tử, graphene chất lượng cao có thể được trồng trên cacbua silic và nhiều chất khác thông qua một quá trình được gọi là sự lắng đọng hơi hóa học (CVD) sử dụng các chất khi như meetan hoặc ethylene.